회전 탄탈륨 타겟

탄탈륨 타겟은 모양에 따라 원형, 직사각형, 삼각형 평면 타겟과 회전 타겟의 두 가지 유형으로 나눌 수 있습니다.
탄탈륨 타겟은 타겟 블랭크 제조 공정에 따라 용융 주조 단조 타겟과 분말 성형 타겟의 두 가지 유형으로 나눌 수 있습니다. 타겟 재료는 스퍼터링 필름의 물리적 및 기계적 특성을 제한하고 코팅 품질에 영향을 미칩니다.
탄탈륨 타겟은 주로 다음 요구 사항을 충족해야 합니다. ① 낮은 불순물 함량과 높은 순도. 타겟 재료의 순도는 필름 구성에 직접 영향을 미칩니다. ② 균일한 내부 구조. 입자 크기 및 질감과 같은 내부 구조는 스퍼터링 속도 및 필름 두께 분포에 영향을 미칩니다. ③ 균일한 구성 및 조직 구조. 균일한 타겟 구성 및 조직은 안정적인 코팅 품질을 보장하는 중요한 보장입니다.

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