탄탈륨 타겟 제조 공정
주로 다음을 포함합니다. ① 타겟 블랭크 제조, 주조, 단조 및 분말 성형의 두 가지 방법으로 나뉩니다. 용융, 주조 및 단조는 습식 제련을 통해 광석에서 얻은 탄탈륨 분말로, 전자 제련 또는 전기 아크로 제련을 사용하여 등압 가압 및 소결하여 순도 요구 사항을 충족하는 탄탈륨 잉곳을 제조하고, 최종적으로 실온 또는 가열 단조, 압연 및 압출과 같은 변형 가공을 통해 얻습니다. 특정 내부 구조를 갖는 탄탈륨 타겟 블랭크, 분말 성형은 습식 제련 방법으로 얻은 탄탈륨 분말을 직접 등압 가압 및 소결하여 제조한 탄탈륨 타겟 블랭크입니다. ② 백플레인 본딩, 바인딩이라고도 합니다. 확산 용접과 브레이징의 두 가지 유형으로 나뉩니다. 확산 용접은 일반적으로 열간 등압 가압으로 달성되고 브레이징은 일반적으로 인듐 브레이징으로 수행됩니다.
탄탈륨 타겟의 관련 구성 요소
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상표 |
화학성분 ≯% |
|||||||||||
|
고마워 |
철 |
시 |
니 |
W |
모 |
티 |
아니요 |
O |
C |
H |
N |
|
|
타1 |
행렬 |
0.005 |
0.005 |
0.005 |
0.005 |
0.002 |
0.002 |
0.050 |
0.02 |
0.004 |
0.002 |
0.005 |
|
타2 |
행렬 |
0.005 |
0.005 |
0.005 |
0.005 |
0.002 |
0.002 |
0.1 |
0.03 |
0.010 |
0.002 |
0.010 |
자주 묻는 질문 회사 소개
질문: 당신은 무역회사입니까, 아니면 제조업체입니까?
A: 우리는 공장이에요.
질문: 지불 조건은 무엇인가요?
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