고순도 Zr 스퍼터링 타겟

고순도 Zr 스퍼터링 타겟

외부 포장 : 무연소 목재 상자
생산방식 : HIP
인증서: ISO9001, COA, MSDS
최소 주문 수량: 1개
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설명
기술적인 매개 변수
지르코늄 타겟의 소개 및 제조 방법

 

지르코늄 타겟은 박막 증착 공정에 사용되는 소재로, 주로 지르코늄(Zr) 원소로 구성되어 있습니다. 높은 융점, 우수한 화학적 안정성, 뛰어난 내식성을 가지고 있어 반도체, 광전자 소자, 장식용 필름 제조에 이상적인 선택입니다. 타겟 소재로서 지르코늄 타겟은 물리 기상 증착(PVD)과 같은 공정에서 고순도 지르코늄 증기를 생성하여 균일하고 고품질의 필름을 형성할 수 있습니다.

제조방법

진공 용해 방법:
공정: 진공 환경에서 지르코늄 금속을 녹입니다.
장점: 산화 및 불순물을 방지하고, 대상 물질의 높은 순도를 보장합니다.

열간 등압 압착 기술:
공정: 고온, 고압을 이용해 지르코늄 분말을 목표 물질로 농축시킵니다.
장점: 고밀도 및 균일한 대상 구조를 생성합니다.

 

제난의 서비스

 

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지르코늄 타겟의 사양

 

인장 요구 사항

등급 인장강도(분) 항복강도(분) 신장률(%)
케이시 엠파 케이시 엠파
1 35 240 20 138 24
2 50 345 40 275 20
3 65 450 55 380 18
4 80 550 70 483 15
5 130 895 120 828 10
7 50 345 40 275 20
9 90 620 70 438 15
12 70 438 50 345 18

 

회사 환경 및 고객 방문

 

Zirconium sputtering target supplier

zr sputtering target supplier

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