지르코늄 표적의 기본 도입
지르코늄 목표고 에너지 입자를 사용하여 표면을 폭격하여 원자 또는 분자가 표면에서 분리되어 기판에 침착하여 박막을 형성하는 주요 재료입니다. 이 공정은 반도체 장치, 광학 코팅, 자기 기록 매체 및 기타 필드의 제조에 널리 사용됩니다.
Zhenan 지르코늄 대상 제품 매개 변수
| 이름 | 재료 | 사양 | 주목 | |
| 외경 | 스레드 크기 | |||
| 둥근 대상 | 크롬 (CR) Zr 니켈 (NI) tial Cu 알 등 |
100*40 | M90*2 | 요구 사항에 따라 다른 외경 사양, 실 및 표면을 제공 할 수도 있습니다. |
| M90*1.5 | ||||
| M86*1.5 | ||||
| M85*1.5 | ||||
| M80*1.5 | ||||
| M52*1.5 | ||||
| 100*45 | M90*2 | |||
| M90*1.5 | ||||
| M86*1.5 | ||||
| M85*1.5 | ||||
| M80*1.5 | ||||
| M52*1.5 | ||||
| 80*50 | M70*1 | |||
| M70*1.5 | ||||
| 100*32 | ||||
| 63*32 | M10 내부 스레드 | |||
Zhenan 지르코늄 대상 제품 샘플 사진 디스플레이


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총 중량이 100kg 이상이거나 같은 경우 공기 또는 바다로 가장 가까운 항구로 선택할 수 있습니다.









