설명
기술적인 매개 변수
다양한 분야의 텅스텐봉 적용
1. 전자분야
텅스텐 막대고주파 전자관, 반도체 장치, 전자빔 장비 및 기타 고전압 분야의 전극 재료로 사용됩니다. 이러한 응용 분야에서 텅스텐 막대는 높은 전류와 고온을 견딜 수 있고 제거가 쉽지 않아 이상적인 전극 재료입니다.
2. 항공우주 분야
텅스텐봉은 고강도, 고융점, 고안정성의 특성을 갖고 있어 항공우주 분야에서도 널리 사용됩니다. 로켓, 위성 및 기타 우주선을 발사하는 제조 공정에서 텅스텐로드는 주로 엔진 노즐 및 연소실과 같은 고온 부품을 제조하는 데 사용됩니다.
3. 화학산업
일부 고온 및 고압 화학 반응에서 텅스텐 막대는 촉매, 반응기 벽 및 기타 구성 요소로 사용될 수 있습니다. 텅스텐 막대는 우수한 화학적 안정성과 내식성을 가지며 극한의 화학적 환경을 견딜 수 있습니다.
4. 금속공학 분야
텅스텐 막대는 야금 분야에서도 널리 사용되며 주로 고속강 및 초경합금과 같은 재료를 제조하는 데 사용됩니다. 텅스텐 막대는 강철 합금 첨가제로 사용되어 강철의 기계적 특성과 내마모성을 향상시키고 강철의 경도와 인성을 높일 수 있습니다.
텅스텐 막대의 기본 매개변수 표
| 가공 | 지름 | 직경 공차 % | 최대 길이, mm |
| 단조, 로터리 스웨이징 | 1.6-20 | ±0.1 | 2000 |
| 20-30 | ±0.1 | 1200 | |
| 30-60 | ±0.1 | 1000 | |
| 60-70 | ±0.2 | 800 |
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