99.95% W 스퍼터링 대상

99.95% W 스퍼터링 대상

화학 성분 : w
효과적인 순도 (%) : 99.95 (3N5)
용융점 : 3407C
밀도 (g\/cm3) : 19.35
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설명
기술적인 매개 변수
텅스텐 표적을 생산하기위한 분말 야금 방법

 

텅스텐 파우더를 진공 열처리 용광로에 넣은 다음 수소를 도입하고 탈기를 위해 계속 가열하십시오.
탈기 된 텅스텐 분말은 진공 뜨거운 압박에 의해 한 번 소결된다.
1 차 소결 후 생성물은 뜨거운 등방성 프레스에 의해 두 번 소결된다.
2 차 소결 후 제품은 기계적 처리에 의해 접지되어텅스텐 대상.

 

Tungsten 대상 제품 세부 정보 매개 변수 테이블 디스플레이

 

밀도 (g\/cm³)

19.35

끓는점 (학위)

5657

기술

진공 용융, 특허 열역학적 공정 및 기계 작업

애플리케이션

반도체, 미세 전자 공학 등

원자 볼륨

9.53 cm3\/mol

결정 구조와 격자 상수

-W : bcc a=3. 16524 nm (25도)

-W

입방 격자 a=5. 046 nm (630도 미만)

 

Zhenan Tungsten 대상 제품 세부 사항
tungsten sputtering target factory
고순도 텅스텐 스퍼터링 대상 제조
w sputtering target factory
고순도 w 스퍼터링 목표 제조
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Zhenan에 대한 FAQ

 

Q : 배송 품질을 제어하고 보장하는 방법은 무엇입니까?

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Q : 지불 조건은 무엇입니까?

A : 신규 고객을위한 일반적으로 두 가지 지불 기간 : 1) 예금으로서의 30% T\/T, B\/L 사본에 대한 70% 잔액; 2) 100% 취소 할 수없는 L\/C가 보일 때; 다른 용어가 필요하면 PLS도 문의하십시오. 최선을 다할 것입니다.