고순도 니켈 스퍼터링 타겟

 

1. 반도체 소재
금속 니켈 박막의 준비는 자기 랜덤 액세스 메모리(MRAM), 신경망 장치, 열전 재료 및 태양 전지 제조의 핵심 단계입니다. 고순도 니켈 타겟의 순도는 매우 높아 반도체 재료의 박막 준비에 대한 엄격한 요구 사항을 충족하고 장치의 성능과 안정성을 보장할 수 있습니다.

2. 광전자공학 및 디스플레이 장치
광전자공학 분야에서는고순도 니켈 타겟반사필름, 필터필름 등 다양한 광학필름을 제조하는 데 사용됩니다. 이러한 필름은 광학소자의 성능과 안정성을 향상시키는 데 중요한 역할을 합니다. 디스플레이 장치 분야에서는 고순도 니켈 타겟을 사용하여 평판 디스플레이, 터치 스크린 및 기타 제조에 핵심 역할을 하는 산화주석(SnO2) 필름과 같은 투명 전도성 산화물(TCO) 필름을 제조합니다. 장치.

3. 태양전지
고순도 니켈 타겟은 태양전지의 투명 전도성 산화막 제조에 중요한 소재로서 태양전지의 광전 변환 효율과 안정성을 향상시키는 데 중요한 응용 가치를 갖는다.

 

 

 

 

 

 

 

 

Q: 견적을 받고 싶다면 어떤 정보를 알려주어야 합니까?

A: 필요한 재료 치수(두께*너비*길이, 직경*길이, 가능하다면 친절하게 도면을 제공해 주시기 바랍니다).

표면 상태, 허용 오차 요청, 수량, 기타 기계적 및 기술적 세부 사항과 같은 추가 정보가 필요합니다.

가능하다면 제품의 용도도 함께 알려주시면 확인을 위한 세부정보와 함께 가장 적합한 제품을 추천해 드리겠습니다.

 

Q: 제품의 품질을 어떻게 보장합니까?

A: 생산 및 완제품의 각 단계는 창고에 보관되기 전에 QC 부서에서 검사를 수행합니다. 완성품 창고에는 NG품 반입이 불가합니다.

 

Q: 신속한 배송을 보장할 수 있나요?

A: 예, 귀하의 문의사항을 받으면 보다 경쟁력 있는 가격을 평가할 뿐만 아니라 가장 합리적인 배송 시간도 얻을 수 있습니다. 따라서 신속한 배송이 보장될 수 있습니다.