설명
기술적인 매개 변수
DIA6.35X300 R05200 TA1 높은 순수한 탄탈 룸 바 탄탈 합금로드
| 상품 이름 | 순수한 탄탈 룸로드/바 |
| 청정 | TA는 99.95% 이상 또는 동일 |
| 밀도 | 16.68 |
| 사양 범위 | dia5-110mm x l |
| 표면 | 밝은 |
| 재산 | 고온 저항성, 상승 저항, 고강도, 높은 융점 등 |
| 용법 | 진공 고온 용광로의 가열 성분; 전자 산업 (전자 구성 요소, 전자 장비, 전자 장치), 예선과 같은 전자 장치; 탄탈 룸 전해 커패시터의 양극 리드, 진공 전자 캐소드 방출원, 이온 스퍼터링 및 스프레이 물질 화학 반응 장비, 부식성 패스너, 고온 성분, 스틸 구조의 음극 보호 시스템 |
| 기준 | ASTM B365 |
| 자격증 | ISO 9001; 2015 |
| 패키지 | 내부에 거품이있는 표준 합판 상자 |
| 리드 타임 | 7-25 일 (수량에 따라 다름) |
공급 업체와 구매자가 합의해야 할 특별 요구 사항.
탄탈 룸 바 순도 99.95%
원자 번호 73을 갖는 희귀 한 내화 금속 인 탄탈 룸 (TA)은 내열성, 부식 면역 및 생체 적합성의 타의 추종을 불허하는 조합으로 유명합니다. 가장 중요한 형태 중 하나입니다99.95% 순도 탄탈 룸 바성능이 재료 우수성에 달려있는 산업의 벤치 마크로 서 있습니다. 이 Ultra - High - 순도 등급은 기능성을 손상시킬 수있는 미량 요소를 제거하여 고급 기술, 의료 및 항공 우주에 필수 불가능합니다.
99.95% 순도에서, 탄탈 룸 바는 철, 니켈 또는 실리콘 - 요소와 같은 불순물을 최소화하여 부식성, 전자 전도성 및 기계적 강도를 저하시키는 불순물을 최소화합니다. 공기에 노출 될 때 자연적으로 형성된 수동 산화물 층 (Ta₂o₅)은 히드로 플루오르 산 (HF) 및 황산과 같은 공격적인 화학 물질을 반발하여 예외적으로 강력해진다. 이것은 부식성 매체에 장기간 노출되면 더 적은 금속을 파괴하는 화학 처리 장비에 이상적입니다. 전자 장치에서 99.95% 순도는 커패시터 양극의 일관된 유전체 특성을 보장하며, 5G 스마트 폰, 웨어러블 및 맥박 조정기와 같은 의료 임플란트에서 커패시턴스를 안정화시키는 데 중요합니다. 더 낮은 - 등급 탄탈륨의 경미한 불순물조차도 전자 흐름을 방해 할 수 있지만이 등급은 그러한 위험을 제거합니다.
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