고순도 탄탈륨 스퍼터링 타겟

고순도 탄탈륨 스퍼터링 타겟

재료 : 순수 탄탈륨 및 합금
화학성분: Ta(99.95%min). Nb. W. Fe
제품명 : 순수 탄탈륨 타겟 탄탈륨 스퍼터링 타겟, 가격도 저렴
재료 : 순수 탄탈륨 및 합금
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설명
기술적인 매개 변수
고순도 탄탈륨 스퍼터링 타겟은 귀하의 요구 사항에 따라 맞춤 제작이 가능합니다.

 

명세서
소재 : R05200
순도 : 99.95% 이상, 99.99% 이상
크기: 맞춤형
표준: ASTM B708-2012
응용분야: 광섬유, 반도체 웨이퍼 및 집적 회로의 스퍼터링 증착 코팅에 사용. 유리, 세라믹, LCD 코팅에 사용. 캐소드 스퍼터링 코팅, 활성 물질의 고진공 흡착 등에 사용.

 

탄탈륨 타겟의 사양

 

좋은 가격 순수 타 타겟 탄탈럼 스퍼터링 타겟

재료

순수 탄탈륨 및 합금

밀도

16.6G/cm3

표면

광택이 나는, 밝은, 굴러가는

모양

둥근 디스크, 작은 디스크, 큰 디스크

최소주문수량

1개

애플리케이션

산업, 전자, 의료

 

우리의 서비스

 

1. 전문 제조업체--15년의 경험

2. 엄격한 품질 관리 - SGS 검사

3. 높은 공급 용량--3000MT/월

4. 즉시 배송 - 15일 이내

 

고객 방문 및 회사 환경

 

High Purity ta Sputtering Target  supplier

High Purity Tantalum Sputtering Target  supplier

Zhenan은 직원 200+명과 공장 면적 30,000+제곱미터의 회사입니다. 저희는 금속 생산 및 제조 분야에서 30+년의 경험을 가지고 있습니다. 제품 구매를 위해 저희에게 연락해 주시기 바랍니다.

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