99.95% 연마 된 순수 탄탈 룸 막대

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특성 : 안정적인 전기 행동, 낮은 무게, 높은 커패시턴스
보호 : 부식에 대한 저항, 높은 융점
사용법 : 합금, 전자 제품
모양 : 둥근 막대
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설명
기술적인 매개 변수
99.95% 탄탈 룸 막대 연마 표면 금속 탄탈 룸 바

 

요소 콘텐츠 요소 콘텐츠 요소 콘텐츠
고마워 Min99.80 O 최대 005 Ag 최대 0.002
S MAX0.005 처럼 최대 0.002 SE 최대 0.0005
P MAX0.01 SB 최대 0.0005 테 최대 0.0005
N MAX0.01 Sn MAX0.005 TL MAX0.00005
PB MAX0.001 바이 MAX0.0001 CD 최대 0.0005
GA MAX0.001 ~ 안에 MAX0.0005    

공급 업체와 구매자가 합의해야 할 특별 요구 사항.

Tantalum Alloy Rod
Tantalum Tungsten Alloy Rods
Tantalum Square Bar
ASME SB365 Tantalum Alloy Bars
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원자 번호 73을 갖는 희귀 한 내화 금속 인 탄탈 룸 (TA)은 부식성, 열 내성 및 생체 적합성의 타의 추종을 불허하는 조합으로 유명합니다. 가장 세련된 형태 중 하나입니다99.95% 연마 된 순수 탄탈 룸 막대정밀도와 내구성이 비 - 협상 가능한 응용 분야에서 완벽한 표면과 Ultra - 고순도를 병합하여 재료 우수성의 파라곤으로 눈에.니다.

 

99.95% 순도에서,이 탄탈로드는 고유 한 특성을 저하시킬 수있는 미량 원소 (예 : 철, 니켈 또는 실리콘)를 제거합니다. 결과는 탁월한 견고성의 수동적 산화물 층 (ta₂o₅)을 갖는 물질로, 수경 플루오르 산 (HF), 황산 및 용융 염을 포함한 가장 공격적인 화학 물질 -에도 불활성이된다. 이 부식 저항은 화학 처리 장비에 중요하며, 부식성 매체에 장기간 노출되면 금속이 적습니다.

 

연마 공정은 유틸리티를 더 높이게합니다. 전기 화학 연마 (ECM) 또는 화학적 - 기계식 평면화 (CMP)를 통해 달성 된 표면은 0.1μm Ra의 거칠기 마감 처리와 같은 미러 -에 부드럽습니다. 이것은 오염 물질 또는 박테리아가 축적 될 수있는 마이크로 - 균열과 틈새를 제거하여 의료 기기 (예 : 수술 도구, 정형 외과 임플란트) 및 반도체 제조 (예 : Capacitor ANOD, 센서 구성 요소)에 이상적입니다. 의료 응용 분야에서 광택이있는 표면은 마찰을 줄이고 인접한 조직의 마모를 최소화하고 임플란트 수명을 연장합니다. 반도체에서, 그것은 균일 한 유전체 성장을 보장하고, 마이크로 칩에서 정전 용량을 안정화시킨다.

 

불순물을 제거하기 위해 전자 - 빔 용융 (EBM)을 통해 생산 된 99.95% 연마 된 탄탈로드는 엄격한 품질 관리를 겪습니다. ASTM A276 및 GLOW와 같은 인증 - 방전 질량 분석법 (GDMS)은 순도를 검증하는 반면 레이저 스캐닝 및 원자력 현미경 (AFM)은 표면 마감을 검증합니다. 항공 우주 (자이로 스코프 하우징) 또는 원자력 (원자로 구성 요소)과 같은 산업의 경우이 수준의 정밀도는 극한 조건에서 신뢰성을 보장합니다.

 

본질적으로, 99.95% 연마 된 순수 탄탈 룸 막대는 물질 과학의 형태와 기능 병합 능력에 대한 증거입니다. 고순도, 부식 저항 및 완벽한 표면의 조합으로 성능과 위생이 수렴하는 응용 분야에서는 필수 불가능합니다.

 

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